十八屆國際真空大會(huì ) 時(shí)間：2010年8月23日~26日；地點(diǎn)：北京國際會(huì )議中心
真空事業(yè)部即將參加于該屆國際真空大會(huì )。展位號：A14,A15。
每三年舉辦一次的《國際真空科技大會(huì )》（The International Vacuum Congress,簡(jiǎn)稱(chēng)IVC）是“國際真空科技與應用聯(lián)盟”（IUVSTA）組織舉辦的科技水平最高、參加會(huì )議人數最多的大型國際學(xué)術(shù)會(huì )議。
本屆展會(huì )的展示內容主要是真空科學(xué)、表面科學(xué)、應用表面科學(xué)、薄膜、電子材料和工藝、表面工程、等離子科技、納米科學(xué)技術(shù)等當前最熱門(mén)的前沿、高科技領(lǐng)域；真空科學(xué)技術(shù)在機械、電子、冶金、航空、航天、輕工、化工、食品、醫藥、衛生、印刷、建筑和裝飾燈各個(gè)領(lǐng)域中的應用項目以及與真空技術(shù)有關(guān)的新工藝、新材料和新產(chǎn)品。
敬請光臨！